内容简介：前言： 在“十四五”规划与晶圆厂产能扩张的双重驱动下，中国LPCVD设备市场需求持续释放。面对海外厂商高达95%的市场垄断，国内LPCVD设备商凭借政策支持与技术创新，在成熟制程领域快速放量，并向先进制程延伸，开启国产替代新篇章。 1、LPCVD设备定义 LPCVD（低压化学气相沉积）是半导体制造中的关键薄膜沉积工艺。LPCVD设备在低压环境下，通过气态前驱体在加热的晶圆表面发生化学反应...
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